尽guan博浪在国内的宣传比较简单，只是一些简报和官网信息更新，但好事者发觉后依旧引发了热议。

无数卧槽刷屏网络空间。

哪怕网友们已经越来越习惯博浪的大手笔，哪怕对博浪最近的动静已经有所准备，网友们仍然被惊到了。

因为从去年星海1横空chu世，在芯片上表现十分chuse以来，国内各zhong自媒ti没少营销晶圆厂、光刻机等等。

里面间或有一些海外来客或者湾湾来客带节奏。

所以，国内网友忽然对这一个遥远的工业领域非常关注，并各个专业了。

有关话题下面，动不动甩chuDUV、EUV这zhong英文缩写，要么就甩中文‘shen紫外极紫外’。

再有就是甩chuASML、台积电，nm、Arf、浸入式、干式。

也会甩一点相对更装bi1的东西，如工艺制程的排序标准，提到从11年开始兴起的新型晶tiguan结构Fi(鳍式场效应晶tiguan)以来，工艺制程的nm数值开始笼统的以上代工艺×0.7得chu。

提到现在吵得热热闹闹的20nm不过是28nm乘以0.7得来，而晶tiguan的最小间距并未缩小那么多。

事实上从Fi技术兴起之后，各类工艺制程标准逐渐以商业营销导向为基础再加上单位面积晶tiguan数来定义。

最典型的例子就是英特尔的14nm 从单位面积晶tiguan数、基础尺寸等角度来看，跟台积电、三星的7nm差距非常微小。

因为Fi这zhong晶tiguan结构属于3D化，最小间距的减少开始变得很缓慢，而3D化后晶tiguan数量仍然在激增，厂商如果单纯沿用原有的mo尔定律缩小一半为工艺升级则显现不chu技术进步，于是以一zhong假设的二维尺寸缩小一半来定义，然后命名规则逐渐厂商化。

所以所谓mo尔定律会死一说，比较难。

哪怕是后来宣传的3nm、2nm工艺，仍然只是5×0.7等于3.5≈3nm，3×0.7等于2.1≈2nm来命名。

实际上台积电在7nm时期最小金属间距是40nm，5nm时期大概是36nm，3nm预计是30~32nm这样子，距离1nm的wu理极限还有不小的空间。

反正厂商营销需要，与实际的科研极限是存在一些差距的。

综上。

在这样的背景下，星空半导ti的官宣信息更新让国内网络也跟着热闹了起来，各zhong谈论都有。

“博浪真是不动则已啊，动起来都是大事情，直接就上全国产设备生产线了，800亿那么多，好哈人。”

“关键是这个星空半导ti不缺用hu啊，以他们这个产能，一年才1.2亿片芯片，供应星海系列都不够！”

“是啊是啊，现在星海有手机、平板，不chu意外的话今年一定会chu电脑，再加上那个星河芯片，产能起码要再扩大三四倍才够自用，好niu。”

“不过只是45nm，是不是有点落后了……不对，难怪神龙M1是40nm工艺，跟这里等着呢！”

“据说海外已经吵翻天了，有海外网友认为星空半导ti这是在挑衅那个什么什么协定，阿mei莉卡肯定会加大guan束的，光刻机可是最尖端的禁运设备。”

比起国内无推波助澜的热议，海外网络确实吵翻天了。

因为那边主要地区阿mei莉卡等都是晚上。

而且range、xiaogshu、推特等平台带节奏的自媒ti太多了，把博浪想要挑衅的味dao渲染到了一个ding峰。

好像下一秒，被guan束限制的博浪就会立即突破封锁，吊打硅谷，再创世界。

博浪在海外网络的he心图谋可不仅仅只是商业目的，还有别的目的，以制造各zhong舆论冲突最终达到一定程度的洗脑为主。

所以，自然不考虑过犹不及一点。

那边的讨论更疯狂。

毕竟有海量的海外网友，各zhong各样的chu发点，还包括湾湾那帮带节奏的在不断从对立面谈论，形态愈来愈激烈。

…………

30号，周二。

上午，shen为星空半导ti代理CEO的赵智依照各方面安排进行了一些有目的的公开事务。

pei合了那台可支撑45nm工艺制程的国产光刻机正式进驻星空半导ti一期工厂来宣传。

无数被通知和知情媒ti齐聚现场。

闪光灯连成一片片。

更是有一些媒ti有意的开启了现场网络直播。

“观众朋友们大家好，现在我们正在江夏星空半导ti总bu，一同见证星空半导ti全国产设备生产线最后一台he心设备入驻厂房。”

“它就是由我国自主生产，ju有自主知识产权的SSSArF 900/45DUV 型IC前dao制造步进扫描投影光刻机。”

“gen据装备说明